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pvd真空电镀的基本原理主要是物理学气相沉积，是当今国际上广泛运用的先进的表面处理技术。其原理便是在真空条件下，利用气体放电使汽体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用下把蒸发物或其生成物沉积在基材上。

pvd真空电镀具备沉积速度更快和表层清洁的特性，尤其具备膜层粘合力强、绕性好、可镀材料普遍等优势。 选用全球先进的磁控溅射离子硬汉视频黄色版和多弧离子硬汉视频黄色版工艺技术，及在这个基础上与国际专家的工艺自主创新。凭借在装饰镀领域二十多年的可贵工作经验，为客人给予合适的金属涂层生产硬汉视频在线官网下载免费版计划方案。

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